[发明专利]曝光方法及装置、以及元件制造方法有效
| 申请号： | 201210359535.9 | 申请日： | 2008-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN102890431A | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 奈良圭 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 基板的曝光方法，包含：图案配置步骤，对分别具有放大倍率、并排的复数个投影光学系统，配置于既定方向具有大于将该投影光学系统的曝光宽度除以该放大倍率所得的宽度、小于该投影光学系统的配置间隔的区域宽度的图案区域；以及曝光步骤，将以该投影光学系统形成的第1图案的投影像、以及第2图案的投影像依序转印至基板上，该第1图案设在各该图案区域的第1部分图案区域，该第2图案则设在相对该第1部分图案区域、至少部分区域在该图案区域内于该既定方向相异的第2部分图案区域。如此，能抑制图案投影像的接合误差的产生，提升图案全体的投影像的转印精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，其包含：图案配置步骤，对分别具有放大倍率、并排的复数个投影光学系统，配置于既定方向具有大于将所述的投影光学系统的曝光宽度除以所述的放大倍率所得的宽度、小于所述的投影光学系统的配置间隔的区域宽度的图案区域；以及曝光步骤，将以所述的投影光学系统形成的第1图案的投影像、以及第2图案的投影像依序转印至基板上，所述的第1图案设在各所述的图案区域的第1部分图案区域，所述的第2图案则设在相对所述的第1部分图案区域、至少部分区域在所述的图案区域内于所述的既定方向相异的第2部分图案区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210359535.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
