[发明专利]双敏感光刻胶的方法和组成有效
| 申请号： | 201210357267.7 | 申请日： | 2012-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103365078A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 吴振豪;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种敏感材料。该敏感材料包括响应于与酸的反应转变成可溶于碱液的聚合物；响应于辐射能分解以形成碱的多种光产碱剂(PBG)；以及响应于热能产生酸的热敏组分。本发明公开了方法和双敏感光刻胶的组成。 | ||
| 搜索关键词： | 敏感 光刻 方法 组成 | ||
【主权项】：
一种双敏感材料，包括：聚合物，响应于与酸的反应转变成可溶于碱液；多种光产碱剂(PBG)，响应于辐射能分解以形成碱；以及热敏组分，响应于热能产生酸。
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