[发明专利]一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 201210324418.9 申请日: 2012-09-05
公开(公告)号: CN102820325A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 杜江峰;赵子奇;尹江龙;张新川;马坤华;罗谦;于奇 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40;H01L29/778
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 代理人: 孙国栋
地址: 610054 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管, 从下至上依次主要由衬底,氮化铝成核层,P型铝铟镓氮缓冲层,氮化镓沟道层,氮化铝插入层及铝铟镓氮势垒层组成,在势垒层上形成有源极、漏极和栅极,源极及漏极与势垒层形成欧姆接触,栅极与势垒层形成肖特基接触,该氮化镓基异质结场效应晶体管还包括与衬底接触的背电极。本发明中的背电极通过调制器件缓冲层电势分布,增大二维电子气沟道与P型铝铟镓氮缓冲层之间的电势差,使沟道二维电子气与缓冲层内P型杂质达到完全耗尽,从而使器件沟道电场分布更加均匀,提升器件的击穿电压。
搜索关键词: 一种 具有 电极 结构 氮化 镓基异质结 场效应 晶体管
【主权项】:
一种具有背电极结构的氮化镓基异质结场效应晶体管,从下至上依次主要由衬底(309),氮化铝(AlN)成核层(308),P型缓冲层(307),氮化镓(GaN)沟道层(306),氮化铝(AlN)插入层(305)及势垒层(304)组成,在势垒层(304)上形成有源极(301)、漏极(302)和栅极(303),源极(301)及漏极(302)与势垒层(304)形成欧姆接触,栅极(303)与势垒层(304)形成肖特基接触,其特征在于:还包括与衬底(309)接触的背电极(310)。
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