[发明专利]阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔UV光的方法在审
| 申请号： | 201210300073.3 | 申请日： | 2012-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN103631087A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 陈小川;薛海林;车春城;王磊 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 蒋雅洁;程立民 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 发明公开了一种阻光基板及其制作方法，方法包括：在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。本发明还公开了一种在对盒工艺中阻隔VU光的方法，包括：在对盒工艺中，将制作的阻光基板设置于LCD基板上方，所述阻光基板的阻光层阻止紫外光对LCD基板中显示区的照射。通过本发明，用转印板代替掩膜板制作阻光基板，能够降低液晶面板生产的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 阻光基板 及其 制作方法 工艺 阻隔 uv 方法 | ||
【主权项】：
一种阻光基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺。
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