[发明专利]光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法有效
| 申请号： | 201210288274.6 | 申请日： | 2009-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN102824158A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 广濑太;山田和朗;宫田和英;武藤健二;户松宣博 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B3/12 | 分类号： | A61B3/12;A61B3/15 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 屠长存 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及可缩短成像时间的光学相干断层成像装置和光学相干断层成像方法。该装置包括用于将入射到光学部分上的测量光束的第一光束直径变为比第一光束直径大的第二光束直径的光束直径改变部分。调整台基于第一光束直径下来自检查对象的位置的返回光束的强度信息来调整会聚光学部分的位置。通过光束直径改变部分，在通过调整台调整的位置处，光束直径从第一光束直径变为第二光束直径，以使具有第二光束直径的测量光束入射到检查对象上。由于使用光束直径小的测量光束，因此可以在相对较短的时间内调整会聚光学部分，并且由于使用光束直径大的测量光束，因此可以以高横向分辨率获取与参照光束的合成光束。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 相干 断层 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种成像装置，基于合成光束来获取对象的图像，所述合成光束是通过将来自用测量光束照射的对象的返回光束与对应于所述测量光束的参照光束合成而获得的，所述成像装置包括：光路长度调整单元，所述光路长度调整单元基于与具有第一光束直径的测量光束对应的第一返回光束来调整测量光束的光路长度与参照光束的光路长度之间的差；以及检测单元，所述检测单元检测通过将与具有比第一光束直径大的第二光束直径的测量光束对应的第二返回光束与参照光束合成而获得的合成光束。
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