[发明专利]屏蔽栅极沟槽MOSFET封装无效
申请号: | 201210286947.4 | 申请日: | 2012-08-13 |
公开(公告)号: | CN102956708A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 雷燮光;苏毅;伍时谦;丹尼尔·卡拉夫特;安荷·叭剌 | 申请(专利权)人: | 万国半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 美国加利福尼亚州*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种屏蔽栅沟槽场效应晶体管可以形成在衬底上,具有一个外延层在衬底上,以及一个本体层在外延层上。形成在本体层和外延层中的沟槽,内衬电介质层。屏蔽电极形成在沟槽下部。通过电介质层使屏蔽电极绝缘。栅极电极形成在屏蔽电极上方的沟槽中,并通过额外的电介质层,与屏蔽电极绝缘。一个或多个源极区形成在本体层中,位于沟槽的侧壁附近。源极垫形成在本体层上方,电连接到一个或多个源极区,并与栅极电极和屏蔽电极绝缘。源极垫提供到源极区的外部接头。栅极垫提供到栅极电极的外部接头。屏蔽电极垫提供到屏蔽电极的外部接头。电阻元件可以电连接在封装中的屏蔽电极垫和源极引线之间。 | ||
搜索关键词: | 屏蔽 栅极 沟槽 mosfet 封装 | ||
【主权项】:
一种屏蔽栅场效应晶体管,其特征在于,包括:a)一个第一导电类型的衬底;b)一个第一导电类型的外延层,位于衬底的上方;c)一个第二导电类型的本体区,形成在外延层上方,第二导电类型与第一导电类型相反;d)一个形成在本体层和外延层中的沟槽,其中电介质层内衬沟槽;e)一个形成在沟槽下部的屏蔽电极,其中通过电介质层,屏蔽电极与外延层绝缘;f)一个形成在屏蔽电极上方的栅极电极,其中通过额外的电介质层,栅极电极与屏蔽电极绝缘;g)一个或多个第一导电类型的源极区,形成在本体层的顶面内,其中每个源极区都靠近沟槽侧壁;h)一个形成在本体层上方的源极垫,其中源极垫电连接到所述的一个或多个源极区,并与栅极电极和屏蔽电极绝缘,源极垫提供到源极区的外部接头;i)一个形成在本体层上方的栅极垫,其中栅极垫电连接到栅极电极,并与所述的一个或多个源极区和屏蔽电极绝缘,栅极垫提供到栅极电极的外部接头;以及j)一个形成在本体层上方的屏蔽垫,其中屏蔽垫电连接到屏蔽电极,并与所述的一个或多个源极区和栅极电极绝缘,屏蔽垫提供到屏蔽电极的外部接头。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于万国半导体股份有限公司,未经万国半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210286947.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电枢轴轴承单元
- 下一篇:人字齿轮粗开坯固定装置
- 同类专利
- 专利分类