[发明专利]化学气相沉积设备及其顶板表面温度检测方法无效
| 申请号： | 201210275076.6 | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN103077877A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 梁秉文;黄颖泉 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/244 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种CVD设备及其中与衬底支撑座相对设置的顶板的表面温度检测方法。所述CVD设备包括腔体、设置在所述腔体内的顶板和衬底支撑座，所述顶板与所述衬底支撑座相对设置，所述衬底支撑座具有面向所述顶板的衬底支撑面，所述顶板具有面向所述衬底支撑座的第一表面和背离所述衬底支撑座的第二表面；所述化学气相沉积设备进一步包括至少一探测孔和至少一温度探测器；所述探测孔从所述腔体的外侧向所述腔体内延伸，并从所述顶板第二表面一侧延伸至所述顶板，但不穿透所述顶板；所述温度探测器通过所述探测孔探测所述顶板的温度，以获得所述顶板第一表面的温度。本发明的CVD设备能够有效检测所述顶板面向所述衬底支撑座的第一表面的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 设备 及其 顶板 表面温度 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积设备，其包括腔体、设置在腔体内的顶板和衬底支撑座，所述顶板与所述衬底支撑座相对设置，所述衬底支撑座具有面向所述顶板的衬底支撑面，所述顶板具有面向所述衬底支撑座的第一表面和背离所述衬底支撑座的第二表面，其特征在于，所述化学气相沉积设备进一步包括至少一探测孔和至少一温度探测器；所述探测孔从所述腔体的外侧向所述腔体内延伸，并从所述顶板第二表面一侧延伸至所述顶板，但不穿透所述顶板；所述温度探测器通过所述探测孔探测所述顶板的温度，以获得所述顶板第一表面的温度。
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