[发明专利]一种反提拉涂膜方法及其装置有效
| 申请号： | 201210272871.X | 申请日： | 2012-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN102764722A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 赵剑曦;李镇祥 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | B05C11/10 | 分类号： | B05C11/10;B05C13/02 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反提拉涂膜方法及其装置，该装置包括了直流稳压电源、电动推杆、盛溶胶容器和基片固定装置，所述盛溶胶容器为恒温容器，所述盛溶胶容器安装在电动推杆的升降推杆上，所述电动推杆由直流稳压电源控制并通过电压调节其行进速度，所述盛溶胶容器旁侧还设置有用于固定基片的基片固定装置，该装置具有提拉速度可控范围宽、精度高、稳定性好、操作方便、涂膜的连续性好以及装置的制作成本低廉等优点，该装置可在任意形状、多种尺寸的基片上制备厚度从几十纳米到数个微米的薄膜，且制备的薄膜均匀性和一致性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反提拉涂膜 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种反提拉涂膜方法，包括盛溶胶容器和基片固定装置，其特征在于：将盛溶胶容器安装在一升降装置上，将基片固定装置固定在升降装置旁侧的静止的结构上，通过升降装置驱动盛溶胶容器上下移动，使得盛溶胶容器与安装在基片固定装置上的基片产生相对运动，以实现反提拉涂膜。
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