[发明专利]一种低丰度低分子量蛋白富集材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210252925.6 申请日: 2012-07-20
公开(公告)号: CN102809498A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 邬建敏;谈洁;赵伟洁 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N33/68
代理公司: 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 代理人: 朱枫
地址: 310058 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种低丰度低分子量蛋白富集材料的制备方法,包括如下步骤:将P型掺硼硅片固定在电解池中,加入乙醇和氢氟酸作为电解液,以硅片为阳极,铂电极为阴极,进行直流电解刻蚀和脱膜,刻蚀脱膜后的多孔硅层用乙醇冲洗干净后超声粉碎,再用氮气吹干;将上述多孔硅颗粒进行臭氧氧化处理;将氧化后的多孔硅颗粒浸泡硅烷化试剂与有机溶剂的混合溶液中反应,再在烘箱中干燥,蒸干后的多孔硅颗粒用乙醇浸泡洗净;选择所需孔径的多孔硅,用氨基硅烷化试剂、巯基硅烷化试剂或环氧基硅烷化试剂进行表面修饰。本发明通过制备多孔硅颗粒达到一步分离、富集和检测血清样品中低分子量蛋白的作用。
搜索关键词: 一种 低丰度低 分子量 蛋白 富集 材料 制备 方法
【主权项】:
一种低丰度低分子量蛋白富集材料的制备方法,包括如下步骤:A)将P型掺硼硅片固定在电解池中,按体积比为1:4~6的比例加入乙醇和重量浓度为40%的氢氟酸作为电解液,以硅片为阳极,铂电极为阴极,进行直流电解刻蚀和脱膜,设定电流强度为0~100mA,刻蚀时间为0~15分钟,刻蚀脱膜后的多孔硅层用乙醇冲洗干净后超声粉碎5~20分钟,再用氮气吹干,所得的多孔硅颗粒的孔径在5~20nm;B)将上述多孔硅颗粒进行臭氧氧化处理5~20分钟,形成表面硅氧键;C)将氧化后的多孔硅颗粒浸泡在体积浓度为1%的硅烷化试剂与有机溶剂的混合溶液中反应1小时,再在烘箱中110℃干燥15分钟,蒸干后的多孔硅颗粒用乙醇浸泡洗净;D)选择所需孔径的多孔硅,用氨基硅烷化试剂、巯基硅烷化试剂或环氧基硅烷化试剂进行表面修饰。
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