[发明专利]抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法

摘要

本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，酸生成剂，和由式(II)表示的化合物，其中R¹、A¹、A¹³、A¹⁴、X¹²、R²³、R²⁴、R²⁵、R²⁶、X²¹和X²²如说明书中限定。

主权项

1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，酸生成剂，和由式(II)表示的化合物，其中R¹表示氢原子或甲基；A¹表示C₁至C₆烷二基；A¹³表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₈二价脂肪族烃基；X¹²表示*-CO-O-或*-O-CO-，*表示与A¹³的结合；A¹⁴表示任选具有一个或多个卤素原子的C₁至C₁₇脂肪族烃基；其中R²⁶表示C₁至C₁₂烷基、C₃至C₁₈脂环烃基或C₆至C₁₄芳香族烃基，包含在所述烷基中的一个或多个氢原子可以被氟原子代替，包含在所述脂环烃基中的一个或多个氢原子可以被羟基、C₁至C₄羟烷基、C₁至C₄氟化羟烷基、C₁至C₄烷氧基或C₂至C₅酰氧基代替，包含在所述芳香族烃基中的一个或多个氢原子可以被氟原子、氯原子、氰基、硝基、C₁至C₄烷基、C₁至C₄烷氧基、C₂至C₅酰基、C₂至C₅酰氧基、C₂至C₅烷氧基羰基或苯基代替，并且包含在所述脂环烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-、-CO-、-N(R^d)-、-S-或-SO₂-代替；X²¹表示单键或C₁至C₁₀烷二基，包含在所述烷二基中的一个或多个氢原子可以被氟原子代替，并且包含在所述烷二基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO代替；X²²表示-O-或-N(R^d)-；R^d表示氢原子或C₁至C₄烷基；R²³、R²⁴和R²⁵独立地表示氢原子、C₁至C₄烷基或C₆至C₁₄芳香族烃基。