[发明专利]正型光刻胶清除液组合物有效
| 申请号： | 201210247558.0 | 申请日： | 2012-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN103383529A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 张峰 | 申请（专利权）人： | 张峰 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315171 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种正型光刻胶清除液组合物，它包括：a)1-20重量份的N，N-二乙基羟胺；b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚；c)1-5重量份的[式1]所示的化合物；d)通过如下单体i)-iii)自由基聚合得到的共聚物； |
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| 搜索关键词： | 光刻 清除 组合 | ||
【主权项】：
1.一种正型光刻胶清除液组合物，其特征在于包括：a)1-20重量份的N，N-二乙基羟基胺；b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚；c)1-5重量份的[式1]所示的化合物；d)通过如下单体i)-iii)自由基聚合得到的共聚物；![]()
[式1]，其中R’为氢，或具有1至4个碳原子的烷基，i)30-70重量％N-乙烯基内酰胺，ii)15-35重量％乙酸乙烯酯，和iii)10-35重量％聚醚。
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