[发明专利]碱性有机腐蚀溶液和利用碱性有机腐蚀溶液去除硅片表面纳米级损伤层的方法无效
| 申请号： | 201210231731.8 | 申请日： | 2012-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN102719827A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 陈同银;邢国强;张斌;刘仁中;马杰华 | 申请（专利权）人： | 合肥海润光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 夏雪 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碱性有机腐蚀溶液，包括四烷基氢氧化铵和去离子水，其中四烷基氢氧化铵的重量百分比为1%至25%。本发明还公开了一种使用如上所述的碱性有机腐蚀溶液去除硅片表面纳米级损伤层的方法。本发明可以很好的通过控制反应速度去除硅片表面的纳米级损伤层，提高少子寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 碱性 有机 腐蚀 溶液 利用 去除 硅片 表面 纳米 损伤 方法 | ||
【主权项】：
一种碱性有机腐蚀溶液，其特征在于：包括四烷基氢氧化铵和去离子水，其中四烷基氢氧化铵的重量百分比为1%至25%。
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