[发明专利]一种薄样掠射X射线荧光光谱分析方法无效
| 申请号： | 201210188834.0 | 申请日： | 2012-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN102680506A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 董宁;戴煦;陈君;李波;刘攀超 | 申请（专利权）人： | 深圳市华测检测技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种薄样掠射X射线荧光（XRF）光谱分析方法，包括如下步骤：（1）制作厚度小于100nm的薄样或多层薄样，放置于XRF分析仪的样品载体上；（2）确定掠射角α，α根据样品厚度、样品材料折射率和样品载体材料折射率计算得出；（3）调节光路，使X射线能够以掠射角α照射到样品上；（4）接收样品发出的X荧光，进行分析。本发明所提供的XRF光谱分析方法使用单色条状X射线束，以掠射的方式照射的试样上，穿透试样进入样品载体的X射线非常少，可以有效的减少基底效应，提高系统的分辨率，降低检出限。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄样掠射 射线 荧光 光谱分析 方法 | ||
【主权项】：
一种薄样掠射X射线荧光（XRF）光谱分析方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）制作厚度小于100nm的薄样或多层薄样，放置于XRF分析仪的样品载体上；（2）确定掠射角α，α根据样品厚度、样品材料折射率和样品载体材料折射率计算得出；（3）调节光路，将X射线整形为条状单色光，并以掠射角α照射到样品上；（4）接收样品发出的X荧光，进行分析。
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