[发明专利]光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置无效
申请号: | 201210174949.4 | 申请日: | 2012-05-31 |
公开(公告)号: | CN102680447A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 张海波;袁志军;周军;楼祺洪;魏运荣;何兵;漆云凤;杜松涛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,由激光器、聚焦透镜、待测光学样品、载物台、成像透镜、光纤、光栅光谱仪和计算机组成。通过探测和分析激光辐照待测光学样品产生的荧光光谱信息,不仅可分析判定不同类型的光学材料在特定工作波长下的光学透明性;而且可分析和判断待测样品的光致损伤情况。本发明可实现对特定激光波长适用的光学材料的甄选和对材料因强激光辐照引起的光致损伤的在线检测。 | ||
搜索关键词: | 光学材料 缺陷 损伤 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种光学材料的缺陷和光致损伤的检测装置,其特征在于该检测装置由激光器(1)、聚焦透镜(2)、载物台(3)、待测光学样品(4)、成像透镜(5)、光纤(6)、光栅光谱仪(7)和计算机(8)组成,上述各部件的位置关系如下:激光器(1)输出的探测光束经聚焦透镜(2)聚焦后,入射到置于载物台(3)上的待测光学样品(4),激光激发待测光学样品(4)产生的荧光信号经成像透镜(5)后由光纤(6)导入所述的光栅光谱仪(7),由该光栅光谱仪(7)输出的荧光信号的光谱和荧光强度信息送所述的计算机(8)显示。
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