[发明专利]全息影像的合成系统有效

专利信息
申请号: 201210152629.9 申请日: 2012-05-16
公开(公告)号: CN103376726B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 姚铭堂 申请(专利权)人: 宇隆光电股份有限公司
主分类号: G03H1/12 分类号: G03H1/12
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 董彬,孟纲
地址: 中国台湾新北市三重*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种全息影像的合成系统,利用影像抽离的处理影像方式以及于物光光波进入底片前的光路径上设置一半圆柱镜的方式两者至少之一,可以减少底片重复曝光的次数,提高重建的全息影像的亮度。
搜索关键词: 全息 影像 合成 系统
【主权项】:
一种全息影像的合成系统,其特征在于,包括:发光单元,提供一同调光束;分光单元,将该同调光束分为一参考光束以及一物光光束;参考光单元,接收该参考光束并基于该参考光束输出一参考光光波;影像产生单元,其提供一目标物体的不同视角的一第一影像以及一第二影像;物光单元,其包括将该物光光束引导至该影像产生单元以产生一物光光波的物光成像系统,其中该物光成像系统包括半圆柱镜,该物光光波带有该第一影像的一影像信息以及该第二影像的一影像信息;以及底片,该参考光光波与对应该第一影像的该物光光波入射该底片以于该底片上形成由多条干涉条纹构成的一曝光干涉区域,且该参考光光波与对应该第二影像的该物光光波入射该底片以于该底片上形成由多条干涉条纹构成的一另一曝光干涉区域,其中该物光光波通过该半圆柱镜后入射至该底片,且该底片设置于该物光成像系统的一焦平面距离附近的一景深范围中但不包括该焦平面距离上,该底片上的该曝光干涉区域以及该另一曝光干涉区域中的部分被重复曝光。
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