[发明专利]全息影像的合成系统有效
申请号: | 201210152629.9 | 申请日: | 2012-05-16 |
公开(公告)号: | CN103376726B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 姚铭堂 | 申请(专利权)人: | 宇隆光电股份有限公司 |
主分类号: | G03H1/12 | 分类号: | G03H1/12 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人: | 董彬,孟纲 |
地址: | 中国台湾新北市三重*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种全息影像的合成系统,利用影像抽离的处理影像方式以及于物光光波进入底片前的光路径上设置一半圆柱镜的方式两者至少之一,可以减少底片重复曝光的次数,提高重建的全息影像的亮度。 | ||
搜索关键词: | 全息 影像 合成 系统 | ||
【主权项】:
一种全息影像的合成系统,其特征在于,包括:发光单元,提供一同调光束;分光单元,将该同调光束分为一参考光束以及一物光光束;参考光单元,接收该参考光束并基于该参考光束输出一参考光光波;影像产生单元,其提供一目标物体的不同视角的一第一影像以及一第二影像;物光单元,其包括将该物光光束引导至该影像产生单元以产生一物光光波的物光成像系统,其中该物光成像系统包括半圆柱镜,该物光光波带有该第一影像的一影像信息以及该第二影像的一影像信息;以及底片,该参考光光波与对应该第一影像的该物光光波入射该底片以于该底片上形成由多条干涉条纹构成的一曝光干涉区域,且该参考光光波与对应该第二影像的该物光光波入射该底片以于该底片上形成由多条干涉条纹构成的一另一曝光干涉区域,其中该物光光波通过该半圆柱镜后入射至该底片,且该底片设置于该物光成像系统的一焦平面距离附近的一景深范围中但不包括该焦平面距离上,该底片上的该曝光干涉区域以及该另一曝光干涉区域中的部分被重复曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇隆光电股份有限公司,未经宇隆光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210152629.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:湿式PU生产线烘烤箱组
- 下一篇:一种涂装专用夹具机构