[发明专利]清洁介质、制造清洁介质的方法以及干式清洁设备无效
| 申请号： | 201210146706.X | 申请日： | 2012-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102773230A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 冈本洋一;渕上明弘;塚原兴治;村田省蔵;种子田裕介 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洁介质、制造清洁介质的方法以及干式清洁设备，该清洁介质具有薄型形状并且用于通过被气流吹气并且与清洁目标碰撞而清洁该清洁目标的干式清洁中，所述清洁介质包括：破裂诱发部分，该破裂诱发部分被构造成诱导破裂并且被形成为：在其沿着破裂诱发部分破裂成片时，在至少一片中形成至少一个锐角部分。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 介质 制造 方法 以及 设备 | ||
【主权项】：
一种清洁介质，该清洁介质具有薄型形状并且用于通过被气流吹动并且与清洁目标碰撞而清洁该清洁目标的干式清洁中，所述清洁介质包括：破裂诱发部分，该破裂诱发部分被构造成诱导破裂并且被形成为：在其沿着破裂诱发部分破裂成片时，在至少一片中形成至少一个锐角部分。
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