[发明专利]一种CMOS 图像传感器成像中的曝光控制方法无效
| 申请号： | 201210140230.9 | 申请日： | 2012-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN102665047A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 丘江;郜向阳;郭波 | 申请（专利权）人： | 北京汉邦高科数字技术股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/351 |
| 代理公司： | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人： | 冯梦洪 |
| 地址： | 100089 北京市海淀区长*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 公开了一种减少了步进调整次数、快速自动的CMOS图像传感器成像中的曝光控制方法，按5级方式划分光照亮度，建立曝光特性数学模型，以此数学模型下的光强度描述各级光照亮度，同时建立相对应的光强度曝光参数对照表；以分区加权统计的方式计算当前帧亮度统计值，并读取当前曝光参数，计算当前曝光特性数学模型下的光强度；以查表方式，在光强度曝光参数对照表中，完成曝光参数的预设置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cmos 图像传感器 成像 中的 曝光 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种CMOS图像传感器成像中的曝光控制方法，其特征在于，按5级方式划分光照亮度，建立曝光特性数学模型，以此数学模型下的光强度描述各级光照亮度，同时建立相对应的光强度曝光参数对照表；以分区加权统计的方式计算当前帧亮度统计值，并读取当前曝光参数，计算当前曝光特性数学模型下的光强度；以查表方式，在光强度曝光参数对照表中，完成曝光参数的预设置。
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