[发明专利]一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机

摘要

一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机，与常规真空镀膜机相比，除了热蒸发镀膜功能配置外，多装备了紫外光照射清洁模块；紫外光照射清洁模块主要由紫外光光源、冷却水循环系统和金属外套组成，紫外光照射清洁模块固定到支架上放置于真空镀膜室中，实现对光学元件的紫外光照射清洁功能。紫外光照射清洁模块的功能由真空镀膜机软件控制，也可以手动操作。本发明能快速清除真空镀膜机内放置的光学元件上的碳氢根污染物，有效提高所制备的光学薄膜元件的性能。本发明配置有紫外光照射清洁模块的真空镀膜机主要适用于深紫外/真空紫外波段光学元件镀膜。

主权项

一种配置紫外光照射清洁功能的真空镀膜机，其特征在于包括：真空模块(1)、热蒸发模块(2)、光学元件夹具模块(3)、薄膜厚度/速度监控模块(4)、温度控制模块(5)和紫外光照射清洁模块(6)；真空模块(1)通过真空管道连接到真空镀膜室(7)，实现真空环境镀膜；热蒸发模块(2)位于真空镀膜室(7)底部，实现薄膜材料的热蒸发；光学元件夹具模块(3)和薄膜厚度/速度监控模块(4)位于真空镀膜室(7)顶部，分别实现光学元件夹持和真空镀膜时薄膜工艺参数控制；温度控制模块(5)在真空镀膜室(7)内，实现薄膜制备过程中真空镀膜室(7)温度监控；所述紫外光照射清洁模块(6)，位于真空镀膜室(7)中，紫外光照射清洁模块(6)由紫外光光源(6‑1)、冷却水循环系统(6‑2)和金属外套(6‑3)组成。紫外光光源(6‑1)旁置冷却水循环系统(6‑2)，并有金属外套(6‑3)将两者封装，最后固定到支架(8)上；紫外光照射清洁模块(6)工作时通过冷却水循环系统(6‑2)对紫外光光源(6‑1)进行冷却降温；紫外光照射清洁模块(6)通过紫外光照射分解紫外光光源(6‑1)周围的氧分子产生氧原子，氧原子与放置在光学元件夹具模块(3)上的被镀光学元件(9)上的碳氢污染物发生光敏氧化反应，实现对被镀光学元件(9)的清洁目的；同时紫外光与被镀光学元件(9)内部和/或薄膜层内的杂质相互作用，实现对被镀光学元件(9)内部和/或膜层的性能优化；紫外光照射清洁模块(6)的功能由真空镀膜机的软件系统控制，也可以手动操作。