[发明专利]一种防止激光光绘菲林变形的制作方法有效
申请号: | 201210115294.3 | 申请日: | 2012-04-19 |
公开(公告)号: | CN102636952A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 蔡新民 | 申请(专利权)人: | 蔡新民 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 225327 江苏省泰*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种防止激光光绘菲林变形的制作方法,它包括以下步骤:步骤一,进行工程、光绘资料制作;步骤二,光绘菲林制作;步骤三,拷贝重氮片。本发明提供的这种防止激光光绘菲林变形的制作方法,它不但能制作出精度高的激光光绘菲林的制作方法,且有效提高了产品质量和工作效率,同时制得的激光光绘菲林的尺寸稳定,不易变形。 | ||
搜索关键词: | 一种 防止 激光 光绘菲林 变形 制作方法 | ||
【主权项】:
一种防止激光光绘菲林变形的制作方法,其特征是它包括以下步骤:步骤一,进行工程文件、光绘文件制作:首先对计算机模板进行图形设计,然后将设计好图形按照生产工艺参数进行工程文件处理,然后根据生产条件对处理好的文件进行拼版,最后生成光绘菲林文件;步骤二,光绘菲林制作:选取银盐片,将银盐片置于加湿皿中处理一段时间后取出并进行激光绘制底片;将光绘好的底片进行冲洗、显影、定影、清洗、风干;再对绘制完成的底片进行检查;步骤三,拷贝重氮片:取出待拷贝的重氮片置于加湿皿中处理一段时间,然后取出步骤二中检查好的光绘底片并以该底片为母本进行拷贝,将拷贝好的重氮片进行显影、风干,然后进行检查。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔡新民,未经蔡新民许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210115294.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:分切机放卷用自动胀紧头
- 下一篇:空调自动堆垛设备
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备