[发明专利]一种对准过程中光强采样点筛选修正的方法有效
| 申请号： | 201210103993.6 | 申请日： | 2012-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN103365105A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 张磊;韩悦;赵新 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种对准过程中光强采样点筛选修正的方法，包括：获取对照标记光强波形中不同周期的相同采样点；根据不同光强波形特点，判断该光强采样点是否为畸变点；判断该畸变点是否连续；根据该畸变点是否连续，对该畸变点进行修正以获得修正后的光强数据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对准 过程 中光强 采样 筛选 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种对准过程中光强采样点筛选修正的方法，其特征在于，包括：（a）获取对照标记光强波形中不同周期的相同采样点；（b）根据不同光强波形特点，判断该光强采样点是否为畸变点；（c）判断该畸变点是否连续；（d）根据所述畸变点是否连续，对所述畸变点进行修正以获得修正后的光强数据。
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