[发明专利]NH2+离子注入的多壁碳纳米管及其制备方法与应用无效
| 申请号: | 201210099980.6 | 申请日: | 2012-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN102626527A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
| 发明(设计)人: | 李德军;郭美仙;张艺腾;赵梦鲤;董雷 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
| 主分类号: | A61L31/02 | 分类号: | A61L31/02;A61L31/14;A61L33/18;C23C14/48 |
| 代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
| 地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | 本发明涉及NH2+离子注入的多壁碳纳米管,它使用离子注入法将NH2+离子注入到喷涂后的碳纳米管上,其中注入NH2+离子的剂量为5×1014ions/cm2—1×1016ions/cm2;NH2+离子束的能量为40keV。本发明进一步公开了经过NH2+离子注入的多壁碳纳米管的亲水性显著提高,通过小鼠肺部成纤维细胞和人脐带静脉血管内皮细胞在材料上的粘附实验证实NH2+离子注入能够提高多壁碳纳米管的细胞相容性,一系列血液实验结果表明NH2+离子注入的多壁碳纳米管具有良好的血液相容性,说明该材料在诸如组织支架等领域具有良好的研究应用价值和广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词: | nh sub 离子 注入 多壁碳 纳米 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
NH2+离子注入的多壁碳纳米管,其特征在于使用离子注入法将NH2+离子束注入到多壁碳纳米管碳上;其中注入NH2+离子的剂量为5×1014 ions/cm2—1×1016 ions/cm2,离子速能量为40 keV;所制备材料的N元素含量为0.99%—0.56% 。
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