[发明专利]一种利用紫外光聚合在电场下制备取向高分子的方法无效
| 申请号： | 201210095988.5 | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102617758A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 聂俊;杨锋;马贵平;李春光 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08F2/48 | 分类号： | C08F2/48 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用紫外光聚合在电场下制备取向高分子的方法。该方法包括以下三个方向：(1)将光聚合单体与引发剂按一定配比混合后在紫外光照射下聚合；(2)将两种光聚合单体与引发剂按一定配比混合后通过共聚合反应在紫外光下聚合；(3)将光聚合单体与溶剂互溶，配合引发剂按一定配比在紫外光下聚合。将配制好的光聚合体系置于1v/mm至2kv/mm的电场强度下5min至2h后，用5～80mW/cm2的紫外光照射1～50min，得到取向高分子。本发明方法易于控制，步骤简单，后处理操作简单，对环境无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 紫外光 聚合 电场 制备 取向 高分子 方法 | ||
【主权项】：
一种利用紫外光聚合在电场下制备取向高分子的方法，其特征包括三个方向：(1)将光聚合单体与引发剂混合后在紫外光照射下聚合；(2)将两种光聚合单体与引发剂混合后通过共聚合反应在紫外光下聚合；(3)将光聚合单体与溶剂互溶，配合引发剂在紫外光下聚合；(4)将上述聚合体系置于1v/mm至2kv/mm的电场强度下1min至2h，用5～80mW/cm2的紫外光照射反应1～50min，得到取向高分子。
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