[发明专利]自由界面形成装置及无窗散裂靶件系统有效
| 申请号： | 201210095318.3 | 申请日： | 2012-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102647848A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 顾汉洋;苏冠宇;胡晨;程旭 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00;G21F9/04 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种自由界面形成装置，用于加速器驱动次临界系统的无窗散裂靶件，包括环形入口均流段、锥形汇聚段和控压下腔室，环形入口均流段、锥形汇聚和控压下腔室形成贯通的流体通道，环形入口均流段用于为锥形汇聚段提供稳定的入口流动条件；锥形汇聚段设置在环形入口均流段和控压下腔室之间，用于将环形入口均流段流入的流体以预先设定的锥度角汇聚形成自由界面，并且流体在锥形汇聚段出口以自由下落方式排入所述控压下腔室。本发明提供一种能够形成更加稳定完整自由界面的无窗散裂靶件自由界面形成装置，该装置所形成的自由界面流动场能够合理有效的减小自由界面液体侧回旋区域尺度，提升流动场热移出能力。 | ||
| 搜索关键词： | 自由 界面 形成 装置 无窗散裂靶件 系统 | ||
【主权项】：
一种自由界面形成装置，用于加速器驱动次临界系统的无窗散裂靶件，其特征在于，包括环形入口均流段、锥形汇聚段和控压下腔室，所述环形入口均流段、所述锥形汇聚和所述控压下腔室形成贯通的流体通道，其中：环形入口均流段：用于为锥形汇聚段提供稳定的入口流动条件；锥形汇聚段：设置在环形入口均流段和控压下腔室之间，用于将环形入口均流段流入的流体以预先设定的锥度角汇聚形成自由界面，并且流体在锥形汇聚段出口以自由下落方式排入所述控压下腔室，所述锥形汇聚段的流道壁面与对称轴方向形成的锥度角为12°‑15°的角度范围；控压下腔室：用于锥形汇聚段提供稳定出口压力，并形成散裂靶流体自由下落，稳定锥形汇聚段中的自由界面。
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