[发明专利]用于光刻设备的自参考干涉对准系统有效
| 申请号： | 201210091145.8 | 申请日： | 2012-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103365122A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 李运锋;朱正平;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的自参考干涉对准系统，其特征在于，包括：一激光光源模块，用于提供照明光束；一光学模块，用于将该照明光束标记上，形成一衍射光学信号；一信号采集模块，用于将该光学信号进行处理，获得光强信号；一处理模块，用于对该光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置；该光学模块中包括第一光学通道和第二光学通道，该第二光学通道中的光学信号经处理后用于消除该第一光学通道中的光学噪声。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 参考 干涉 对准 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的自参考干涉对准系统，其特征在于，包括：一激光光源模块，用于提供照明光束；一光学模块，用于将所述照明光束标记上，形成一衍射光学信号；一信号采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；一处理模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置；所述光学模块中包括第一光学通道和第二光学通道，所述第二光学通道中的光学信号经处理后用于消除所述第一光学通道中的光学噪声。
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