[发明专利]具有带锥形表面的薄膜支撑的微机械声换能器有效

专利信息
申请号: 201210082794.1 申请日: 2012-03-26
公开(公告)号: CN102740200A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 斯特凡·巴泽恩;程序;阿尔方斯·德赫;沃尔夫冈·弗里扎;沃尔夫冈·克莱因;莫辛·纳瓦兹;乌韦·赛德尔 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H04R17/00 分类号: H04R17/00;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 德国瑙伊*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明公开一种具有带锥形表面的薄膜支撑的微机械声换能器,还公开一种用于制造微机械声换能器的方法,该方法包括在衬底装置的第一主表面上顺序沉积分别具有第一蚀刻率和较低的第二蚀刻率的第一和第二薄膜支撑材料层。接着沉积薄膜材料层。从衬底装置的与薄膜支撑材料和薄膜材料相对的一侧形成衬底装置中的凹腔,至少直到该凹腔延伸至第一薄膜支撑材料层。通过位于凹腔的延伸部分中的至少一个第一区和环绕该第一区的第二区中的凹腔,通过施加蚀刻剂来蚀刻第一和第二薄膜支撑材料层。该蚀刻在第二区中形成第二薄膜支撑材料层上的锥形表面。继续蚀刻,至少直到从第一区中去除第二薄膜支撑材料层,以露出薄膜材料层。
搜索关键词: 具有 锥形 表面 薄膜 支撑 微机 械声换能器
【主权项】:
一种用于制造微机械声换能器的方法,所述方法包括:在衬底装置的第一主表面上沉积第一薄膜支撑材料层,第一薄膜支撑材料对于特定蚀刻剂具有第一蚀刻率;在所述第一薄膜支撑材料层的主表面上沉积第二薄膜支撑材料层,第二薄膜支撑材料对于所述特定蚀刻剂具有低于所述第一蚀刻率的第二蚀刻率;在所述第二薄膜支撑材料层的主表面上沉积薄膜材料层;从所述衬底装置的与所述第一薄膜支撑材料层相对的一侧形成所述衬底装置中的凹腔,至少直到所述凹腔延伸至所述第一薄膜支撑材料层;借助于通过所述凹腔施加所述特定蚀刻剂而蚀刻所述第一薄膜支撑材料层和所述第二薄膜支撑材料层,所述蚀刻发生在至少一个第一区中,所述至少一个第一区沿着基本垂直于所述衬底装置的第一主表面的方向位于所述凹腔的延伸部分中,所述蚀刻还发生在环绕所述第一区的第二区中,其中,所述蚀刻在所述第二区中形成所述第二薄膜支撑材料层上的锥形表面;以及继续所述蚀刻,直到去除所述第一区中的所述第二薄膜支撑材料层,以露出所述薄膜材料层。
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