[发明专利]发光二极管阵列芯片结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210065483.4 申请日: 2012-03-14
公开(公告)号: CN102544283A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 邓朝勇;李绪诚;王新;张安邦;杨利忠 申请(专利权)人: 贵州大学
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/36;H01L33/00
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 李亮;程新敏
地址: 550025 贵州省贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了一种发光二极管阵列芯片结构,包括衬底,其特征在于:在衬底上设有缓冲层,在缓冲层的顶面设有n型层,在缓冲层与n型层之间设有线状平行排列的n型层引线;在n型层的顶面设有RGB发光层,在RGB发光层、n型层及缓冲层之间设有与n型层引线对应的隔离层Ⅰ;在RGB发光层的顶面上设有p型层,在p型层的顶面上设有透明电机层,在透明电机层的顶面上设有p型层引线,在p型层与透明电机层之间设有与p型层引线位置对应的隔离层Ⅱ,在隔离层Ⅱ的顶面设有覆盖了透明电极层,但是露出了p型层引线的钝化保护层。本发明所制作得到的产品在整体可实现真彩发光、一定发光区域组合方式下实现白光或单色光发射。
搜索关键词: 发光二极管 阵列 芯片 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种发光二极管阵列芯片结构,包括衬底(1),其特征在于:在衬底(1)上设有缓冲层(2),在缓冲层(2)的顶面设有n型层(4),在缓冲层(2)与n型层(4)之间设有线状平行排列的n型层引线(3),在n型层(4)上设有与n型层引线(3)位置对应的凸起,该凸起向两侧延伸;在n型层(4)的顶面设有RGB发光层,在RGB发光层、n型层(4)及缓冲层(2)之间设有与n型层引线(3)对应的隔离层Ⅰ(8),每个隔离层Ⅰ(8)均与对应的n型层引线(3)接触;在RGB发光层的顶面上设有p型层(9),在p型层(9)的顶面上设有透明电机层(10),在透明电机层(10)的顶面上设有p型层引线(11),在p型层(9)与透明电机层(10)之间设有与p型层引线(11)位置对应的隔离层Ⅱ(12),隔离层Ⅱ(12)与p型层引线(11)接触,在隔离层Ⅱ(12)的顶面设有覆盖了透明电极层(10),但是露出了p型层引线(11)的钝化保护层(13)。
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