[发明专利]一种干膜显影工艺有效
| 申请号： | 201210064938.0 | 申请日： | 2012-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN103207544A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;樊春雷 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于制作掩膜板的干膜显影工艺，使用的显影液是质量百分比浓度为0.6%—1.2%的碳酸钾溶液，其中按质量百分比浓度0～2.0%加入丙烯酸类添加物；显影时的显影温度为30±3℃，溶液pH值为10.40～11.40，显影压力为1-4kg/cm2，显影点为90±6%；优选方案为显影液中含有质量百分比浓度为0.8%的碳酸钾溶液，以及质量百分比浓度为1.0%丙烯酸类添加物；显影时的显影温度为30±1℃，溶液pH值为10.8，显影压力为2kg/cm2，显影点为90±3%，本发明能够解决目前PCB行业一般采用碳酸钠作为显影液存在的显影速度慢、均匀性差、容易过显渗镀等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显影 工艺 | ||
【主权项】：
一种用于制作掩膜板的干膜显影工艺，其特征在于，所使用的显影液是质量百分比浓度为0.6%—1.2%的碳酸钾溶液，其中按质量百分比浓度0～2.0%加入丙烯酸类添加物；显影时的显影温度为30±3℃，溶液pH值为10.40～11.40，显影压力为1‑4kg/cm2，显影点为90±6%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山允升吉光电科技有限公司，未经昆山允升吉光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210064938.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
