[发明专利]物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法有效
| 申请号： | 201210032173.2 | 申请日： | 2012-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN103290355A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 苏金种;刘芳钰;朴炳俊 | 申请（专利权）人： | 金文焕 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽;孙佳胤 |
| 地址： | 韩国台中县梧栖*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法。该方法包括下列步骤：清洗该反应室腔体零件；对该反应室腔体零件进行涂膜以形成一中介层；以及当所述中介层表面累积一特定厚度的金属镀膜发生破裂或剥落后，去除所述中介层。通过本发明能增加该反应室腔体零件的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 反应 室腔体 零件 清洁 方法 | ||
【主权项】：
一种物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法，其特征在于，包括：清洗所述反应室腔体零件；对所述反应室腔体零件进行涂膜以形成一中介层；以及当所述中介层表面累积的金属镀膜发生破裂或剥落后，去除所述中介层。
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