[发明专利]镀银材料及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210032115.X 申请日: 2012-02-06
公开(公告)号: CN102634826A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 篠原圭介;尾形雅史;宫泽宽 申请(专利权)人: 同和金属技术有限公司
主分类号: C25D3/46 分类号: C25D3/46
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供即使银镀膜较薄且银镀膜的表面未覆盖有机皮膜,耐腐蚀性也优良的镀银材料及其制造方法。使用由80~250g/L的氰化银钾和40~200g/L的氰化钾和3~35mg/L的硒氰酸钾构成的银镀液,以液温15~30℃、电流密度3~10A/dm2进行电镀,在原材料膜上形成反射浓度为1.0以上且(111)面、(200)面、(220)面及(311)面的X射线衍射峰的积分强度的总和中的(111)面的X射线衍射峰的积分强度的比例为40%以上的银镀膜。
搜索关键词: 镀银 材料 及其 制造 方法
【主权项】:
镀银材料,其特征在于,在原材料上形成银镀膜,银镀膜的反射浓度为1.0以上,银镀膜的(111)面、(200)面、(220)面及(311)面的X射线衍射峰的积分强度的总和中的(111)面的X射线衍射峰的积分强度的比例为40%以上。
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