[发明专利]钛磷酸盐发光薄膜、其制备方法及电致发光器件有效
| 申请号： | 201210030170.5 | 申请日： | 2012-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN103242846A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 周明杰;王平;陈吉星;黄辉 | 申请（专利权）人： | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/81 | 分类号： | C09K11/81;H01L33/26 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 518100 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于导电薄膜领域，其公开了一种钛磷酸盐发光薄膜、其制备方法及电致发光器件；该导电薄膜的化学通式为MTi4-x-yP6O24:xCe3+，yTb3+；其中，MTi4-x-yP6O24为基质，M选自Ca，Ba或Sr，Ce3+和Tb3+为发光中心离子，x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.04。该导电薄膜在490nm和510nm处有良好的发光，是一种潜在新起的蓝绿光发光材料。 | ||
| 搜索关键词： | 磷酸盐 发光 薄膜 制备 方法 电致发光 器件 | ||
【主权项】：
一种钛磷酸盐发光薄膜的制备方法，其特征在于，该制备方法的步骤如下：S1、称取MO、TiO2、P2O5、CeO2和Tb4O7粉体，经过均匀混合后，在900～1300℃下烧结处理，制得陶瓷靶材；其中，MO、TiO2、P2O5、CeO2和Tb4O7粉体的摩尔比分别为1∶3.91～3.98∶3∶0.01～0.05∶0.0025～0.01，M选自Ca，Ba或Sr；S2，将步骤S1中制得的陶瓷靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体中，并将真空腔体设置成真空状态，该真空态的真空度为1.0×10‑3Pa～1.0×10‑5Pa；S3，调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45～95mm，磁控溅射工作压强0.2～4Pa，氩气工作气体的流量为10～35sccm，衬底温度为250℃～750℃；接着进行制膜，得到薄膜样品；S4，将步骤S3中的薄膜样品置于0.01Pa真空炉中、退火温度为500℃～800℃下退火1～3h，得到化学通式为MTi4‑x‑yP6O24:xCe3+，yTb3+的钛磷酸盐发光薄膜；其中，MTi4‑x‑yP6O24为基质，Ce3+和Tb3+为发光中心离子，x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.04。
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