[发明专利]用于显微镜的透照装置有效
申请号: | 201210023416.6 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN102628983B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | R·保卢斯;H·史尼兹勒;H·迪迪尔 | 申请(专利权)人: | 徕卡显微系统(瑞士)股份公司 |
主分类号: | G02B21/06 | 分类号: | G02B21/06;G02B17/00 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司11280 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 瑞士海*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于显微镜(100)的透照装置(150),包括平面光源(151),在辐射方向(AR)上设置在平面光源(151)之后的光阑装置(152)、其包括相对彼此可移动的两个光阑元件,两个光阑元件中的至少一个包括切口,两个光阑元件与至少一个切口一起定义光阑开口,通过光阑元件相对彼此的位置定义该光阑开口在两个相互垂直的方向上的尺寸。 | ||
搜索关键词: | 用于 显微镜 透照 装置 | ||
【主权项】:
一种用于显微镜(100)的透照装置(150),包括:平面光源(151),光阑装置(152),在辐射方向(AR)上设置在该平面光源(151)之后,其包括相对彼此可移动的两个光阑元件(153,154),两个光阑元件(153,154)中的至少一个包括切口(153a,154a),两个光阑元件(153,154)与至少一个切口(153a,154a)一起定义光阑开口(155),通过光阑元件(153,154)相对彼此的位置定义该光阑开口(155)在两个相互垂直的方向上的尺寸(156,157),并且其中所述平面光源(151)的光被配置为穿过所述光阑开口(155)并且照射在所述辐射方向(AR)上设置在所述光阑元件(153,154)之后的样本。
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