[发明专利]一种具有高可见光透过率和高压电常数的共掺杂ZnO薄膜有效
申请号: | 201210004182.0 | 申请日: | 2012-01-09 |
公开(公告)号: | CN103199189A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 曾飞;刘宏燕;杨晶;潘峰;罗景庭 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L41/18 | 分类号: | H01L41/18 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种共掺杂ZnO薄膜。所述ZnO薄膜由a类元素、b类元素和ZnO组成;所述a类元素为Mg和Ga中至少一种;所述b类元素为V、Cr、Fe和Mn中至少一种;所述a类元素的原子百分数为1%~3.4%,所述b类元素的原子百分数为1%~2%,Zn的原子百分数为44.6%~48%,余量为O。本发明提供的ZnO薄膜的压电系数提高到50pC/N以上,同时对可见光的透过率达到90%。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 可见光 透过 高压电 常数 掺杂 zno 薄膜 | ||
【主权项】:
一种共掺杂ZnO薄膜,其特征在于:所述ZnO薄膜由a类元素、b类元素和ZnO组成;所述a类元素为Mg和Ga中至少一种;所述b类元素为V、Cr、Fe和Mn中至少一种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210004182.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种消除铁磁谐振的方法
- 下一篇:废气能量回收装置及其发动机组件