[发明专利]立式扩散炉电器控制系统及控制方法有效
| 申请号： | 201210001182.5 | 申请日： | 2012-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN102534803A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 张芳;张海轮;慕晓航;程朝阳 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B31/18 | 分类号： | C30B31/18;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法，涉及半导体生产技术领域，所述系统包括：中心控制模块，用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息，对所述传输模块和工艺模块进行控制；所述传输模块，用于控制硅片的传输，记录硅片的状态信息，并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块；所述工艺模块，用于根据工艺需求，控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和气压。本发明通过提出一种新型的立式扩散炉电器控制系统内部的构架，提高了设备自动化程度，同时提高设备运行的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 扩散 电器 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种立式扩散炉电器控制系统，其特征在于，所述系统包括：中心控制模块、传输模块和工艺模块，所述中心控制模块，用于根据所述传输模块和工艺模块发送来的状态信息，对所述传输模块和工艺模块进行控制；所述传输模块，用于控制硅片的传输，记录硅片的状态信息，并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块；所述工艺模块，用于根据工艺需求，控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和压力，并将工艺过程中的当前温度、气体和压力作为工艺过程的状态信息发送至所述中心控制模块。
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