[发明专利]用于控制流体的电磁阀有效

专利信息
申请号: 201180066971.0 申请日: 2011-12-15
公开(公告)号: CN103347752A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: M·安布罗西;E·菲尔;A·卡尔;A·莱希勒;S·斯泰因加斯;N·霍伊斯;J·诺贝格;G·施托克迈尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: B60T8/36 分类号: B60T8/36;F16K31/06
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 苏娟
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于控制流体的电磁阀,包括:衔铁(2),具有底部区域(20)、侧面区域(21)和顶部区域(22);与衔铁(2)相连的阀元件(3);以及衔铁壳体构件(23),其中,在衔铁(2)和衔铁壳体构件(23)之间形成流动路径(26),该流动路径从下衔铁腔室(24)延伸至上衔铁腔室(25)并且回到下衔铁腔室(24),顶部区域(22)具有削平部(32),在衔铁壳体构件(23)和削平部(32)之间限定出该上衔铁腔室(25),在衔铁(2)的侧面区域(21)上从底部区域(20)开始形成至少一个凹槽(28),该凹槽(28)在侧面区域(21)中在顶部区域(22)的削平部(32)之前结束。
搜索关键词: 用于 控制 流体 电磁阀
【主权项】:
一种用于控制流体的电磁阀,包括:‑衔铁(2),具有底部区域(20)、侧面区域(21)和顶部区域(22),‑与衔铁(2)相连的阀元件(3),以及‑衔铁壳体构件(23),‑其中,在所述衔铁(2)和所述衔铁壳体构件(23)之间形成流动路径(26),该流动路径从下衔铁腔室(24)延伸至上衔铁腔室(25)并且回到下衔铁腔室(24),‑其中,所述顶部区域(22)具有削平部(32),‑其中,在所述衔铁壳体构件(23)和所述削平部(32)之间限定出所述上衔铁腔室(25),‑其中,在所述衔铁(2)的侧面区域(21)上,从所述底部区域(20)开始,形成至少一个凹槽(28),以及‑其中,所述凹槽(28)在侧面区域(21)中在顶部区域(22)的削平部(32)之前结束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180066971.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top