[发明专利]保护膜形成用化学溶液

摘要

本发明的课题在于提供一种形成拒水性保护膜(10)的保护膜形成用化学溶液，其用于改善容易诱发表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部(4)表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌中的至少1种元素的晶片(金属系晶片)的图案倾塌的清洗工序。[解决方案]一种拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含下述拒水性保护膜形成剂和溶剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在前述金属系晶片的清洗工序之后且干燥工序之前在至少凹部(4)表面形成拒水性保护膜(10)，该拒水性保护膜形成剂为通式[1]表示的化合物。(R¹是一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，R²各自相互独立地是包含一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的烃基的1价有机基团，a是0至2的整数。)

主权项

1.一种拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含下述拒水性保护膜形成剂和溶剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌中的至少1种元素的晶片的清洗工序之后且干燥工序之前在至少凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为下述通式[1]表示的化合物，式[1]中，R¹是一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1至18的1价烃基，R²各自相互独立地是包含一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1至18的烃基的1价有机基团，a是0至2的整数。