[发明专利]芳烃树脂、光刻法用底层膜形成组合物以及形成多层抗蚀图案的方法

摘要

目的是提供一种高碳浓度和低氧浓度的芳烃树脂，其可用作半导体用涂层剂或者抗蚀剂用树脂；提供一种用于形成光刻的底层膜的组合物，所述底层膜作为多层抗蚀工艺的底层膜具有优异的耐蚀刻性，提供一种由所述组合物形成的底层膜，以及提供一种使用所述底层膜形成图案的方法。本发明的特征在于在酸性催化剂的存在下，芳烃、芳族醛和酚衍生物反应从而得到芳烃树脂，所述芳烃树脂具有90-99.9质量%的高碳浓度和在丙二醇单甲醚乙酸酯中10质量%以上的溶解度。

主权项

1.一种芳烃树脂，其由式(1)表示的芳烃、式(2)表示的醛和式(3)表示的酚衍生物在酸性催化剂的存在下反应得到：其中在式(1)中，R表示氢或具有1至4个碳原子的烷基，l和m各自表示1到3的数，A表示0到2的数，由R所表示的多个基团彼此相同或不同；在式(2)中，X表示氢、具有1至10个碳原子的烷基、具有6至10个碳原子的芳基、环己基、羟基、甲酰基或羰基，p和q各自表示1到3的数，B表示0到2的数，由X所表示的多个基团彼此相同或不同；以及在式(3)中，Y和Z表示氢、具有1至10个碳原子的烷基、具有6至10个碳原子的芳基或环己基，r和s各自表示1到10的数，C表示0到2的数，由Y和Z所表示的多个基团彼此相同或不同。