[发明专利]用于处理排放流体的装置有效
| 申请号： | 201180063273.5 | 申请日： | 2011-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN104220145A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 李相润;卢明根;吴兴植 | 申请（专利权）人： | LOT真空股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/32 | 分类号： | B01D53/32;H05H1/24;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 杨生平;钟锦舜 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于处理排放流体的装置，其将在用于制造半导体、显示面板或太阳能电池的装置的处理室中产生的流体排放到外部，用于处理排放流体的所述装置包括：真空泵，其连接到所述处理室，将所述处理室的内部抽成真空，并且将在所述处理室中产生的所述流体排放到外部；以及等离子体反应器，在其中形成等离子体并且将在所述处理室中产生的流体分解，其中所述等离子体反应器包括：绝缘导管，其设置在所述处理室与所述真空泵之间并且设有所述流体在其中分解的空间；至少一个电极单元，其设置在所述导管的外周边表面上并且接收形成等离子体的电压；以及缓冲单元，其由导电弹性物质形成并且布置在所述导管与所述电极单元之间，以将所述导管与所述电极单元紧密地附接在一起。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 排放 流体 装置 | ||
【主权项】：
一种用于处理排放流体的装置，其中该装置将在用于制造半导体、显示面板或太阳能电池的装置的处理室中产生的流体排放到外部，其中用于处理排放流体的所述装置包括：真空泵，其连接到所述处理室，将所述处理室的内部抽成真空，并且将在所述处理室中产生的所述流体排放到外部；以及等离子体反应器，在其中形成等离子体并且将在所述处理室中产生的流体分解，其中所述等离子体反应器包括：绝缘导管，其设置在所述处理室与所述真空泵之间并且设有所述流体在其中分解的空间；至少一个电极单元，其设置在所述导管的外周边表面上并且接收形成等离子体的电压；以及缓冲单元，其由导电弹性物质形成并且布置在所述导管与所述电极单元之间，以将所述导管与所述电极单元紧密地附接在一起。
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