[发明专利]具有采用双极存储元件的存储单元的多级存储器阵列及其形成方法无效
| 申请号: | 201180060113.5 | 申请日: | 2011-10-06 |
| 公开(公告)号: | CN103314442A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
| 发明(设计)人: | Y-T.陈;A.米尼;R.E.舒尔莱恩;L.法索利 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克3D有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 黄小临 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 提供一种存储器阵列,包括第一存储单元(200-1)和第二存储单元(200-2),其中第一存储单元(200-1)具有第一导线(202a)、形成在第一导线之上的第一双极存储元件(102-1)、以及形成在第一双极存储元件之上的第二导线(302);第二存储单元(200-2)形成在第一存储单元之上并且具有形成在第二导线之上的第二双极存储元件(102-2)、以及形成在第二双极存储元件之上的第三导线(202b)。第一和第二存储单元共享第二导线(302);第一双极存储元件(102-1)在第一存储单元内具有第一存储元件极性取向;第二双极存储元件(102-2)在第二存储单元内具有第二存储元件极性取向;并且第二存储元件极性取向与第一存储元件极性取向相反。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 采用 存储 元件 单元 多级 存储器 阵列 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种存储器阵列,包括:第一存储单元,该第一存储单元具有:第一导线;第一双极存储元件,形成在该第一导线之上;以及第二导线,形成在该第一双极存储元件之上;以及第二存储单元,形成在该第一存储单元之上,并且该第二存储单元具有:第二双极存储元件,形成在该第二导线之上;以及第三导线,形成在该第二双极存储元件之上;其中该第一存储单元和该第二存储单元共享该第二导线;其中该第一双极存储元件在该第一存储单元内具有第一存储元件极性取向;其中该第二双极存储元件在该第二存储单元内具有第二存储元件极性取向;并且其中该第二存储元件极性取向与该第一存储元件极性取向相反。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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