[发明专利]具有采用双极存储元件的存储单元的多级存储器阵列及其形成方法无效

专利信息
申请号: 201180060113.5 申请日: 2011-10-06
公开(公告)号: CN103314442A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: Y-T.陈;A.米尼;R.E.舒尔莱恩;L.法索利 申请(专利权)人: 桑迪士克3D有限责任公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00;G11C13/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 黄小临
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种存储器阵列,包括第一存储单元(200-1)和第二存储单元(200-2),其中第一存储单元(200-1)具有第一导线(202a)、形成在第一导线之上的第一双极存储元件(102-1)、以及形成在第一双极存储元件之上的第二导线(302);第二存储单元(200-2)形成在第一存储单元之上并且具有形成在第二导线之上的第二双极存储元件(102-2)、以及形成在第二双极存储元件之上的第三导线(202b)。第一和第二存储单元共享第二导线(302);第一双极存储元件(102-1)在第一存储单元内具有第一存储元件极性取向;第二双极存储元件(102-2)在第二存储单元内具有第二存储元件极性取向;并且第二存储元件极性取向与第一存储元件极性取向相反。
搜索关键词: 具有 采用 存储 元件 单元 多级 存储器 阵列 及其 形成 方法
【主权项】:
一种存储器阵列,包括:第一存储单元,该第一存储单元具有:第一导线;第一双极存储元件,形成在该第一导线之上;以及第二导线,形成在该第一双极存储元件之上;以及第二存储单元,形成在该第一存储单元之上,并且该第二存储单元具有:第二双极存储元件,形成在该第二导线之上;以及第三导线,形成在该第二双极存储元件之上;其中该第一存储单元和该第二存储单元共享该第二导线;其中该第一双极存储元件在该第一存储单元内具有第一存储元件极性取向;其中该第二双极存储元件在该第二存储单元内具有第二存储元件极性取向;并且其中该第二存储元件极性取向与该第一存储元件极性取向相反。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑迪士克3D有限责任公司,未经桑迪士克3D有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180060113.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top