[发明专利]透镜阵列及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180059306.9 申请日: 2011-12-08
公开(公告)号: CN103261925A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 涩谷和孝;新见忠信 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;B29C45/26;G02B6/32;G02B6/42;B29L11/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种透镜阵列及其制造方法,其不只在透镜面上、而且在透镜阵列主体中光路形成用的彼此位置靠近的两个凹部间的光路附近,都可有效地抑制焊缝的发生。通过将第四面(4e)作为闸门(GT)侧的面,使透镜阵列主体(4)成形时的熔融树脂材料的合流位置从透镜面(11~13)的形成位置偏离,而且,利用第三凹部(38)的三维形状,在透镜阵列主体(4)成形时,抑制由与第四面(4e)相对向的面(4f)侧而来的熔融树脂材料朝向第一凹部(18)和第二凹部(19)之间所对应的流路内的流入。
搜索关键词: 透镜 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种透镜阵列,其由使用模具的树脂成形而形成,该透镜阵列的特征在于,具备:多个第一透镜面,其以在规定的排列方向上排列的方式形成在透镜阵列主体的第一面上;多个第二透镜面,其以沿上述排列方向排列的方式形成在上述透镜阵列主体的第二面上,该第二面在与上述排列方向正交的方向上与上述第一面相邻;至少一个第三透镜面,其形成在上述第一面中的相对于上述第一透镜面的上述第二面侧的附近位置;第一凹部,其凹入形成在与上述第一面相对向的透镜阵列主体的第三面,且具备全反射面,该全反射面用于形成通过上述第一透镜面和上述第二透镜面的第一光路;以及第二凹部,其以位于上述第一光路上的方式凹入形成在上述第二面侧相对于上述第三面的上述第一凹部的附近位置,且用于形成通过上述第三透镜面的第二光路,在上述排列方向中的一方向与上述第一面和上述第二面相邻接的上述透镜阵列主体的第四面为上述模具的闸门侧的面,在上述第三面上凹入形成第三凹部,该第三凹部用于抑制在上述透镜阵列主体成形时在第一凹部与上述第二凹部之间的光路附近产生焊缝,并连接在上述第一凹部的上述排列方向中的另一方的端部或上述第二凹部的上述排列方向中的另一方的端部。
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