[发明专利]负型图案形成方法及抗蚀剂图案有效
| 申请号： | 201180057434.X | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103229102A | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 加藤启太;藤井佳奈;上村聪;岩户薰 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种负型图案形成方法，包含：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高树脂（A）的极性而使树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光从而形成经曝光的膜；以及（iii）用含有一或多种有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种负型图案形成方法，包括：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高所述树脂（A）的极性而使所述树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光，从而形成经曝光的膜；以及（iii）用所述含有一或多种有机溶剂的显影剂使所述经曝光的膜显影。
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