[发明专利]三维聚焦防散射栅格及其制造方法无效
| 申请号： | 201180056011.6 | 申请日： | 2011-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN103222010A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | T·J·贝克 | 申请（专利权）人： | 海龟湾合伙有限责任公司 |
| 主分类号： | G21K1/00 | 分类号： | G21K1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 袁玥 |
| 地址： | 美国宾*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于改善在医学、兽医学或工业应用中产生的x射线图像的图像对比度的聚焦防散射栅格的设备和制造方法。该栅格包括彼此并置成形成用于通过聚焦成像x射线的一系列聚焦通道的一系列模块化单元。模块包括一系列重金属的聚焦带或由聚合物形成并且在至少一个侧表面上具有重金属层的一系列配合固体弓形模型。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 聚焦 散射 栅格 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种聚焦栅格，其包括：多个模块，每个模块包括交替的辐射透明材料和辐射吸收材料，将所述模块组装成使得相邻定位的模块彼此并置成形成聚焦通道；以及框架，所述多个模块安装并固定到所述框架上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海龟湾合伙有限责任公司，未经海龟湾合伙有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180056011.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：USB插座充电器
- 下一篇：存储器缓存架构中的CPU
