[发明专利]分离膜、分离膜元件和分离膜的制造方法无效
| 申请号： | 201180053575.4 | 申请日： | 2011-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN103201023A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 高木健太朗;木村将弘;广泽洋帆 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B01D69/00 | 分类号： | B01D69/00;B01D69/10;B01D69/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 熊玉兰;李进 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供具有多个凹凸部的分离膜，所述凹凸部具有100微米至2000微米的高度差并在分离膜的至少一个表面上形成，其中所述凹凸部中的最小厚度平均值d1和最大厚度平均值d2满足下列关系式[1]：0.8≤d1/d2≤1.0。 | ||
| 搜索关键词： | 分离 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
分离膜，其具有多个凹凸部，所述凹凸部具有100微米至2000微米的高度差并形成于分离膜的至少一个表面上，其中，所述凹凸部中的最小厚度平均值d1和最大厚度平均值d2满足下述关系式[1]：0.8≤d1/d2≤1.0 [1]。
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