[发明专利]晶体太阳能电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201180053407.5 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN103314451A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: H.纳格尔;K.瓦斯;W.施密特 申请(专利权)人: 肖特太阳能股份公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种制备具有p-掺杂的硅基材(12)和至少一个抗反射层(22)的晶体太阳能电池(10)的方法,该基材前侧含有n-掺杂的区域(14)。为了使太阳能电池的并联电阻降低和因此的填充系数降低减少,提供了将含磷酸的溶液均匀地施加到太阳能电池的整个前侧表面,在太阳能电池的第一热处理步骤中形成磷硅酸盐玻璃,和在第一热处理步骤中或在随后的第二热处理步骤中,形成在表面附近的含硅的沉淀物,其中基材的前侧表面上的层(26)中均匀或基本均匀的表面覆盖率为5%-100%。
搜索关键词: 晶体 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种制备具有p‑掺杂的硅基材(12)和至少一个抗反射层(22)的晶体太阳能电池(10)的方法,该基材前侧含有n‑掺杂的区域(14),其特征在于在基材(12)的n‑掺杂的区域(14)中,以在5%‑100%范围的均匀或基本均匀的表面覆盖率在前侧表面附近形成含硅的沉淀物,其中p‑掺杂的硅基材(12)的整个前侧表面被亲水化,然后将含磷酸的溶液均匀地施涂到整个前侧表面上,并接着在基材的第一热处理步骤中,形成磷硅酸盐玻璃,和在该第一热处理步骤中或在随后的第二热处理步骤中,形成在表面附近的含硅的沉淀物。
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