[发明专利]氢氧化钴及其制造方法以及氧化钴及其制造方法有效
| 申请号： | 201180053002.1 | 申请日： | 2011-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN103201222A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 大石义英 | 申请（专利权）人： | 日本化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01G51/04 | 分类号： | C01G51/04;H01M4/525 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于得到即使二次颗粒的粒径大也具有强聚集性的氢氧化钴和氧化钴。本发明为一种氢氧化钴，其特征在于，是一次颗粒聚集而成的二次颗粒，具有在SEM图像的图像分析中的长径长度为1.5μm以上的片状、柱状或针状的一次颗粒作为构成该二次颗粒的一次颗粒，振实密度为0.80g/mL以上。 | ||
| 搜索关键词： | 氢氧化 及其 制造 方法 以及 氧化钴 | ||
【主权项】：
一种氢氧化钴，其特征在于，是一次颗粒聚集而成的二次颗粒，具有在SEM图像的图像分析中的长径长度为1.5μm以上的片状、柱状或针状的一次颗粒作为构成该二次颗粒的一次颗粒，该氢氧化钴的振实密度为0.80g/mL以上。
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