[发明专利]光学膜、偏光板及成像显示装置有效

专利信息
申请号: 201180049370.9 申请日: 2011-10-14
公开(公告)号: CN103154786A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 米山博之;高桥勇太 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/10;G02F1/1335
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光学膜,其具有:硬涂层;光学异向性层;以及透明支撑物,其中光学异向性层含有液晶化合物以及粘合剂,硬涂层、光学异向性层以及透明支撑物以此顺序层压,光学异向性层的表面含有不与光学异向性层的粘合剂形成共价键的含氟化合物,光学膜在硬涂层形成侧的表面含有经共价键固定的含氟化合物或聚硅氧系列化合物,且光学膜在硬涂层形成侧的顶端表面特性满足下列条件:(1)Ra0.05微米至0.25微米;(2)Rz0.4微米至3.0微米;(3)Sm40微米至200微米;(4)表面雾度0.1至15;(5)内部雾度0至28;以及(6)总雾度0.1至30。
搜索关键词: 光学 偏光 成像 显示装置
【主权项】:
一种光学膜,其包括:硬涂层;光学异向性层;以及透明支撑物;其中所述光学异向性层含有液晶化合物以及粘合剂,所述硬涂层、所述透明支撑物以及所述光学异向性层以此顺序层压,所述光学异向性层的表面含有不与所述光学异向性层的所述粘合剂形成共价键的含氟化合物,所述光学膜在所述硬涂层形成侧的表面含有通过共价键固定的含氟化合物或硅酮系列化合物,以及所述光学膜在硬涂层形成侧的顶表面特性满足下列条件:(1)Ra0.05微米至0.25微米;(2)Rz0.4微米至3.0微米;(3)Sm40微米至200微米;(4)表面雾度0.1至15;(5)内部雾度0至28;以及(6)总雾度0.1至30其中Ra、Rz以及Sm分别表示粗糙度曲线中的算术平均粗糙度、粗糙度曲线中的十点平均粗糙度以及粗糙度曲线中各峰之间的间隔。
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