[发明专利]真空处理装置

摘要

提供一种实现装置小型化且生产率高、成本低的真空处理装置。传送长的带状基材S使其通过真空处理室（1），在该真空处理室（1）内对带状基材实施规定处理。在真空处理室（1）中设置单个的处理单元（3），设置有送出辊（6）和卷取辊（7）的真空辅助室（2）与真空处理室（1）相连设置。在真空处理室内跨处理单元的两侧上具有一对第一辊单元（4），每个第一辊单元具有等间隔配置的多个辊（42），将各辊在轴向上彼此错开配置，带状基材以螺旋状缠绕在两辊单元的各辊上。还具有移位装置（5），以与处理单元相对的带状基材的一面为表面，当带状基材的里面与处理单元相对时所述移位装置（5）将该带状基材的一部分以规定幅度向该处理单元侧移动。

主权项

一种真空处理装置，其传送长的带状基材使其通过真空处理室，在该真空处理室内对所述带状基材实施规定处理，其特征在于：所述真空处理室中设置有单个的处理单元，并且相连设置有真空辅助室，所述真空辅助室设置有送出辊和卷取辊中的至少一个，所述真空处理装置的构成为，在所述真空处理室内跨所述处理单元的两侧上具有一对第一辊单元，每个第一辊单元分别具有等间隔配置的多个辊，使各辊在轴向上彼此错开配置，所述带状基材以螺旋状缠绕在各辊上；还具有移位装置，以所述带状基材从第一辊单元的一侧各辊到另一侧各辊的与所述处理单元相对的一面为表面，在所述带状基材的里面与所述处理单元相对时，所述移位装置使所述带状基材的一部分以规定幅度向所述处理单元侧移位。