[发明专利]等离子处理装置有效
| 申请号： | 201180042545.3 | 申请日： | 2011-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN103202105A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 节原裕一;江部明宪 | 申请（专利权）人： | EMD株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/205;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 袁伟东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子处理装置，其能够以比外部天线方式的等离子处理装置高的密度生成等离子，并且能够抑制作为内部天线方式的问题点的、杂质向被处理物的混入或颗粒的产生。本发明的等离子处理装置具有金属制的真空容器(11)、在真空容器(11)的上壁(112)设置的贯通孔(空洞)的内部配置有高频天线(18)的天线配置部(14)、以及覆盖上壁(112)的内表面(1121)整体的电介质制的分隔板(15)。在该等离子处理装置中，通过上壁(112)的内表面(1121)侧整体由分隔板(15)覆盖，由此在内表面(1121)与分隔板(15)之间不会产生台阶，因此能够防止在台阶部分产生附着物引起的颗粒的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于，具备：a)密闭容器，其用于在内部进行等离子处理，且具有周围由大致正交棱线包围的壁；b)天线配置部，其设置在所述壁的内表面与外表面之间，且由在内表面侧具有开口的空洞构成；c)高频天线，其配置在所述天线配置部内；d)电介质制的分隔板，其覆盖所述壁的内表面的由所述大致正交棱线包围的部分整体。
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