[发明专利]环状光学装置有效
| 申请号： | 201180038816.8 | 申请日： | 2011-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103140748A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 佩里·A·帕伦博 | 申请（专利权）人： | 哈希公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/47 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种环状光学装置(100)，包括：包括以旋转轴线(A)为中心的环(11)的环状中间光学装置(1)；和基本上同轴地位于环(11)内的辅助光学结构(2)。辅助光学结构(2)和环状中间光学装置(1)被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质(12)分隔开。辅助光学结构(2)保持样本以被入射电磁辐射照射。来自辅助光学结构(2)且在环状中间光学装置(1)的环(11)内的被散射的辐射在所述被散射的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许进入到环状中间光学装置(1)中。环状中间光学装置(1)使被散射的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线(A)的被改变方向的辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 环状 光学 装置 | ||
【主权项】：
一种环状光学装置(100)，包括：环状中间光学装置(1)，所述环状中间光学装置包括以旋转轴线(A)为中心的环(11)；和辅助光学结构(2)，所述辅助光学结构基本上同轴地位于环状中间光学装置(1)的环(11)内，其中辅助光学结构(2)和环状中间光学装置(1)被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质(12)分隔开，辅助光学结构(2)配置成保持样本以被基本上沿着旋转轴线(A)引导到辅助光学结构(2)中的入射电磁辐射照射，其中来自辅助光学结构(2)且在环状中间光学装置(1)的环(11)内的被散射的辐射在所述被散射的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许通过辅助光学结构(2)进入到环状中间光学装置(1)中，以及其中环状中间光学装置(1)使被散射的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线(A)的被改变方向的辐射。
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