[发明专利]用于清洁离子源的至少一个表面的方法和设备有效
| 申请号： | 201180037797.7 | 申请日： | 2011-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN103053006A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 约翰·艾利森 | 申请（专利权）人： | 奎托斯分析有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/16 | 分类号： | H01J49/16;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 英国曼*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及用于清洁质谱仪中的离子源的表面的方法和设备，例如是MALDI离子源的电极。该方法包括将UV光投向到表面上以使杂质材料去吸附。UV光源可以是激光器，并且可使用移动的反射表面将光投向到表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 离子源 至少 一个 表面 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种清洁质谱仪中的用于产生样品材料离子的离子源的至少一个表面的方法，其中所述方法包括：将UV光投向到所述离子源的所述至少一个表面上，从而使杂质材料从所述至少一个表面去吸附。
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