[发明专利]精度管理系统有效

专利信息
申请号: 201180035824.7 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN103026237B 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 李晴;西田正治 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N35/00 分类号: G01N35/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;曹鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在临床检查室中,根据自动分析装置的运用状况或追加检查项目等,装置的污浊程度有可能始终变化,存在按照现有的间隔实施的校准无法充分维持装置性能的风险。另一方面,精度管理结果根据开封后的试剂性能而变动,因此,试剂的补充或污染导致试剂性能变化,对此,以预定间隔的校准存在无法随机应变地校准试剂的风险。提供一种精度管理方法,其根据精度管理画面以及校准结果的变动模式,对最佳的校准方法和校准间隔发出警告。
搜索关键词: 精度 管理 系统
【主权项】:
一种精度管理系统,其特征在于,具有:存储机构,其存储精度结果和校准结果的组合的变动模式;比较机构,其比较在该存储机构中存储的变动模式和所测定的变动模式;以及提示单元,其根据该比较机构的比较结果,提示最佳的校准间隔,所述提示单元还一起提示最佳的校准方法,当在所述存储机构中存储的变动模式是S1Abs、K因子一起周期性地漂移的模式时,所述提示单元提示执行以比现状短的间隔实施的2点校准,所述K因子的计算式为K=(S2‑S1)/(S2Abs‑S1Abs),其中,S2、S1是两个校准样各自的浓度值,S2Abs、S1Abs是通过使用了这两个校准样的校准而得的各自的吸光度。
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